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Ieee Journal Of The Electron Devices Society

Ieee Journal Of The Electron Devices Society SCIE

IEEE電子器件學(xué)會雜志雜志

中科院分區(qū):3區(qū) JCR分區(qū):Q3 預(yù)計(jì)審稿周期: 9 Weeks

《Ieee Journal Of The Electron Devices Society》是一本由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商出版的工程技術(shù)國際刊物,國際簡稱為IEEE J ELECTRON DEVI,中文名稱IEEE電子器件學(xué)會雜志。該刊創(chuàng)刊于2013年,出版周期為1 issue/year。 《Ieee Journal Of The Electron Devices Society》2023年影響因子為2,被收錄于國際知名權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE。

ISSN:2168-6734
研究方向:Biochemistry, Genetics and Molecular Biology-Biotechnology
是否預(yù)警:否
E-ISSN:2168-6734
出版地區(qū):UNITED STATES
Gold OA文章占比:97.60%
語言:English
是否OA:開放
OA被引用占比:1
出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
出版周期:1 issue/year
影響因子:2
創(chuàng)刊時間:2013
年發(fā)文量:92
雜志簡介 中科院分區(qū) JCR分區(qū) CiteScore 發(fā)文統(tǒng)計(jì) 通訊方式 相關(guān)雜志 期刊導(dǎo)航

Ieee Journal Of The Electron Devices Society 雜志簡介

《Ieee Journal Of The Electron Devices Society》重點(diǎn)專注發(fā)布Biochemistry, Genetics and Molecular Biology-Biotechnology領(lǐng)域的新研究,旨在促進(jìn)和傳播該領(lǐng)域相關(guān)的新技術(shù)和新知識。鼓勵該領(lǐng)域研究者詳細(xì)地發(fā)表他們的高質(zhì)量實(shí)驗(yàn)研究和理論結(jié)果。該雜志創(chuàng)刊至今,在Biochemistry, Genetics and Molecular Biology-Biotechnology領(lǐng)域,有較高影響力,對來稿文章質(zhì)量要求較高,稿件投稿過審難度較大。歡迎廣大同領(lǐng)域研究者投稿該雜志。

Ieee Journal Of The Electron Devices Society 雜志中科院分區(qū)

中科院SCI分區(qū)數(shù)據(jù)
中科院SCI期刊分區(qū)(2023年12月升級版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 4區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2022年12月升級版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月舊的升級版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月基礎(chǔ)版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 4區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月升級版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2020年12月舊的升級版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 3區(qū)
中科院分區(qū)趨勢圖
影響因子趨勢圖

中科院JCR分區(qū):中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))是中國科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心世界科學(xué)前沿分析中心的科學(xué)研究成果,是衡量學(xué)術(shù)期刊影響力的一個重要指標(biāo),一般而言,發(fā)表在1區(qū)和2區(qū)的SCI論文,通常被認(rèn)為是該學(xué)科領(lǐng)域的比較重要的成果。

影響因子:是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報(bào)告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù),現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價(jià)指標(biāo),不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標(biāo),而且也是測度期刊的學(xué)術(shù)水平,乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。

Ieee Journal Of The Electron Devices Society 雜志JCR分區(qū)

Web of Science 數(shù)據(jù)庫(2023-2024年最新版)
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 202 / 352

42.8%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 179 / 354

49.58%

Ieee Journal Of The Electron Devices Society CiteScore 評價(jià)數(shù)據(jù)(2024年最新版)

  • CiteScore:5.2
  • SJR:0.505
  • SNIP:0.955

CiteScore 排名

學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Materials Science 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q2 90 / 284

68%

大類:Materials Science 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 253 / 797

68%

大類:Materials Science 小類:Biotechnology Q2 139 / 311

55%

CiteScore趨勢圖
年發(fā)文量趨勢圖

CiteScore:是由Elsevier2016年發(fā)布的一個評價(jià)學(xué)術(shù)期刊質(zhì)量的指標(biāo),該指標(biāo)是指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScore和影響因子的作用是一樣的,都是可以體現(xiàn)期刊質(zhì)量的重要指標(biāo),給選刊的作者了解期刊水平提供幫助。

Ieee Journal Of The Electron Devices Society 雜志發(fā)文統(tǒng)計(jì)

文章名稱引用次數(shù)

  • FinFET Versus Gate-All-Around Nanowire FET: Performance, Scaling, and Variability21
  • Characterization and Compact Modeling of Nanometer CMOS Transistors at Deep-Cryogenic Temperatures19
  • Characterization and Modeling of 28-nm Bulk CMOS Technology Down to 4.2 K14
  • Cryogenic Temperature Characterization of a 28-nm FD-SOI Dedicated Structure for Advanced CMOS and Quantum Technologies Co-Integration11
  • Hysteresis Reduction in Negative Capacitance Ge PFETs Enabled by Modulating Ferroelectric Properties in HfZrOx11
  • Tunneling Transistors Based on MoS2/MoTe2 Van der Waals Heterostructures11
  • Direct Correlation of Ferroelectric Properties and Memory Characteristics in Ferroelectric Tunnel Junctions10
  • Ferroelectric HfO2 Tunnel Junction Memory With High TER and Multi-Level Operation Featuring Metal Replacement Process10
  • Development and Fabrication of AlGaInP-Based Flip-Chip Micro-LEDs10
  • Experimental Investigations of State-of-the-Art 650-V Class Power MOSFETs for Cryogenic Power Conversion at 77K10

國家/地區(qū)發(fā)文量

  • CHINA MAINLAND168
  • USA99
  • Taiwan98
  • South Korea74
  • Japan61
  • India40
  • France29
  • GERMANY (FED REP GER)27
  • Switzerland23
  • Belgium20

機(jī)構(gòu)發(fā)文發(fā)文量

  • NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY35
  • INDIAN INSTITUTE OF TECHNOLOGY SYSTEM (IIT SYSTEM)22
  • CHINESE ACADEMY OF SCIENCES20
  • ECOLE POLYTECHNIQUE FEDERALE DE LAUSANNE18
  • NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY17
  • UNIVERSITY OF ELECTRONIC SCIENCE & TECHNOLOGY OF CHINA17
  • NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY15
  • SEOUL NATIONAL UNIVERSITY (SNU)15
  • SOUTH CHINA UNIVERSITY OF TECHNOLOGY15
  • PEKING UNIVERSITY14

Ieee Journal Of The Electron Devices Society 雜志社通訊方式

《Ieee Journal Of The Electron Devices Society》雜志通訊方式為:445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。詳細(xì)征稿細(xì)則請查閱雜志社征稿要求。本站可提供SCI投稿輔導(dǎo)服務(wù),SCI檢索,確保稿件信息安全保密,合乎學(xué)術(shù)規(guī)范,詳情請咨詢客服。

免責(zé)聲明

若用戶需要出版服務(wù),請聯(lián)系出版商:445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。

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