《Journal Of Microelectromechanical Systems》雜志的影響因子為2.5。
SCI的影響因子是衡量學術(shù)期刊學術(shù)影響力和價值的重要指標。影響因子反應(yīng)了期刊中論文被引用的頻率，計算方式是某期刊前兩年內(nèi)發(fā)表的論文在當年被引用總次數(shù)，以下是影響因子對科研人員和期刊本身的重要意義：
1.學術(shù)價值：被頻繁引用的論文通常意味著其研究具有較高的學術(shù)價值和創(chuàng)新性。
2.期刊評價：影響因子是評價學術(shù)期刊質(zhì)量的重要標準之一，高影響因子的期刊通常學術(shù)地位較高。
3.科研晉升：在學術(shù)界，發(fā)表在影響因子高的期刊上的論文對作者職稱晉升有積極的影響。
4.科研資助：研究資助機構(gòu)可能將期刊影響因子作為評估申請項目質(zhì)量的依據(jù)之一。
5.期刊分區(qū)：SCI期刊根據(jù)影響因子進行分區(qū)，高影響因子的期刊通常被分在較高的分區(qū)，這關(guān)系到期刊的學術(shù)聲譽和學術(shù)地位。
需要注意的是，影響因子雖然有重要的意義，但并不是評價期刊的唯一標準。選擇期刊時還需要考慮期刊的質(zhì)量、口碑、出版速度、覆蓋領(lǐng)域等多方面因素。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數(shù)據(jù)，現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標，而且也是測度期刊的學術(shù)水平，乃至論文質(zhì)量的重要指標。
《Journal Of Microelectromechanical Systems》是一本由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商出版的工程技術(shù)國際刊物，國際簡稱為J MICROELECTROMECH S，中文名稱微機電系統(tǒng)雜志。該刊創(chuàng)刊于1992年，出版周期為Bimonthly，平均審稿速度為 約3.0個月 。
2023年影響因子為2.5，被收錄于國際知名權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE。重點專注發(fā)布工程技術(shù)-工程：電子與電氣領(lǐng)域的新研究，旨在促進和傳播該領(lǐng)域相關(guān)的新技術(shù)和新知識。
相關(guān)數(shù)據(jù)統(tǒng)計：
（1）中科院SCI期刊分區(qū)
大類學科：工程技術(shù)3區(qū)； 小類學科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC(工程：電子與電氣)3區(qū)。
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
（2）JCR分區(qū)Q2；
| 按JIF指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 165 / 352 |
53.3% |
| 學科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q2 | 28 / 76 |
63.8% |
| 學科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 99 / 140 |
29.6% |
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 87 / 179 |
51.7% |
| 按JCI指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 168 / 354 |
52.68% |
| 學科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q2 | 37 / 76 |
51.97% |
| 學科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 73 / 140 |
48.21% |
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 83 / 179 |
53.91% |
（3）CiteScore評價數(shù)據(jù)：
CiteScore 排名
| 學科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類：Engineering 小類：Mechanical Engineering | Q1 | 140 / 672 |
79% |
| 大類：Engineering 小類：Electrical and Electronic Engineering | Q1 | 199 / 797 |
75% |
