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Journal Of Vacuum Science & Technology A

Journal Of Vacuum Science & Technology A SCIE

真空科學與技術學報雜志

中科院分區：3區 JCR分區：Q3 預計審稿周期： 一般,3-6周

《Journal Of Vacuum Science & Technology A》是一本由AVS Science and Technology Society出版商出版的材料科學國際刊物，國際簡稱為J VAC SCI TECHNOL A，中文名稱真空科學與技術學報。該刊創刊于1983年，出版周期為Bimonthly。 《Journal Of Vacuum Science & Technology A》2023年影響因子為2.4，被收錄于國際知名權威數據庫SCIE。

ISSN：0734-2101
研究方向：材料科學：膜-工程技術
是否預警：否
E-ISSN：1520-8559
出版地區：UNITED STATES
Gold OA文章占比：27.03%
語言：English
是否OA：未開放
OA被引用占比：0.2168...
出版商：AVS Science and Technology Society
出版周期：Bimonthly
影響因子：2.4
創刊時間：1983
年發文量：333
雜志簡介 中科院分區 JCR分區 CiteScore 發文統計 通訊方式 相關雜志 期刊導航

Journal Of Vacuum Science & Technology A 雜志簡介

《Journal Of Vacuum Science & Technology A》重點專注發布材料科學：膜-工程技術領域的新研究，旨在促進和傳播該領域相關的新技術和新知識。鼓勵該領域研究者詳細地發表他們的高質量實驗研究和理論結果。該雜志創刊至今，在材料科學：膜-工程技術領域，有較高影響力，對來稿文章質量要求較高，稿件投稿過審難度較大。歡迎廣大同領域研究者投稿該雜志。

Journal Of Vacuum Science & Technology A 雜志中科院分區

中科院SCI分區數據
中科院SCI期刊分區（2023年12月升級版）
大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
材料科學 3區 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 3區 3區 否 否
中科院SCI期刊分區（2022年12月升級版）
大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
材料科學 2區 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 3區 3區 否 否
中科院SCI期刊分區（2021年12月舊的升級版）
大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
材料科學 3區 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 3區 3區 否 否
中科院SCI期刊分區（2021年12月基礎版）
大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
工程技術 4區 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 4區 4區 否 否
中科院SCI期刊分區（2021年12月升級版）
大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
材料科學 3區 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 3區 3區 否 否
中科院SCI期刊分區（2020年12月舊的升級版）
大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
材料科學 2區 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 2區 3區 否 否
中科院分區趨勢圖
影響因子趨勢圖

中科院JCR分區：中科院JCR期刊分區（又稱分區表、分區數據）是中國科學院文獻情報中心世界科學前沿分析中心的科學研究成果，是衡量學術期刊影響力的一個重要指標，一般而言，發表在1區和2區的SCI論文，通常被認為是該學科領域的比較重要的成果。

影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數據，現已成為國際上通用的期刊評價指標，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標，而且也是測度期刊的學術水平，乃至論文質量的重要指標。

Journal Of Vacuum Science & Technology A 雜志JCR分區

Web of Science 數據庫（2023-2024年最新版）
按JIF指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
學科：MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS SCIE Q3 13 / 23

45.7%
學科：PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 96 / 179

46.6%
按JCI指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
學科：MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS SCIE Q3 12 / 23

50%
學科：PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 88 / 179

51.12%

Journal Of Vacuum Science & Technology A CiteScore 評價數據（2024年最新版）

  • CiteScore：5.1
  • SJR：0.569
  • SNIP：0.957

CiteScore 排名

學科類別 分區 排名 百分位
大類：Physics and Astronomy 小類：Condensed Matter Physics Q2 135 / 434

69%
大類：Physics and Astronomy 小類：Surfaces and Interfaces Q2 19 / 57

67%
大類：Physics and Astronomy 小類：Surfaces, Coatings and Films Q2 45 / 132

66%
CiteScore趨勢圖
年發文量趨勢圖

CiteScore：是由Elsevier2016年發布的一個評價學術期刊質量的指標，該指標是指期刊發表的單篇文章平均被引用次數。CiteScore和影響因子的作用是一樣的，都是可以體現期刊質量的重要指標，給選刊的作者了解期刊水平提供幫助。

Journal Of Vacuum Science & Technology A 雜志發文統計

文章名稱引用次數

  • Review Article: Stress in thin films and coatings: Current status, challenges, and prospects72
  • Status and prospects of plasma-assisted atomic layer deposition26
  • Practical guides for x-ray photoelectron spectroscopy: First steps in planning, conducting, and reporting XPS measurements23
  • Functional model for analysis of ALD nucleation and quantification of area-selective deposition19
  • Review Article: Catalysts design and synthesis via selective atomic layer deposition16
  • Paradigm shift in thin-film growth by magnetron sputtering: From gas-ion to metal-ion irradiation of the growing film14
  • Review Article: Atomic layer deposition for oxide semiconductor thin film transistors: Advances in research and development14
  • Atomic layer deposition of silicon-based dielectrics for semiconductor manufacturing: Current status and future outlook13
  • Review Article: Crystal alignment for high performance organic electronics devices12
  • Vapor-deposited octadecanethiol masking layer on copper to enable area selective Hf3N4 atomic layer deposition on dielectrics studied by in situ spectroscopic ellipsometry11

國家/地區發文量

  • USA368
  • Japan77
  • GERMANY (FED REP GER)61
  • South Korea56
  • France44
  • Sweden33
  • CHINA MAINLAND31
  • England29
  • Finland26
  • Netherlands26

機構發文發文量

  • UNITED STATES DEPARTMENT OF ENERGY (DOE)58
  • CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS)30
  • UNITED STATES DEPARTMENT OF DEFENSE26
  • LINKOPING UNIVERSITY25
  • UNIVERSITY OF ILLINOIS SYSTEM24
  • UNIVERSITY OF CALIFORNIA SYSTEM20
  • CEA18
  • UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM17
  • UNIVERSITY SYSTEM OF MARYLAND17
  • LAM RESEARCH CORPORATION16

Journal Of Vacuum Science & Technology A 雜志社通訊方式

《Journal Of Vacuum Science & Technology A》雜志通訊方式為：A V S AMER INST PHYSICS, STE 1 NO 1, 2 HUNTINGTON QUADRANGLE, MELVILLE, USA, NY, 11747-4502。詳細征稿細則請查閱雜志社征稿要求。本站可提供SCI投稿輔導服務，SCI檢索，確保稿件信息安全保密，合乎學術規范，詳情請咨詢客服。

免責聲明

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